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フォトマスク

フォトマスクとは

フォトマスクとは、マスクブランクルと呼ばれる透明な基板の上にクロムなどの光を通さない材料で電子デバイスの回路パターンを形成したものです。
フォトマスクは、薄膜エッチングの工程でフォトレジストを塗布した基板上にパターンを焼き付けるときの原版となります。
つまりフォトマスクを通して、回路パターンが基板(ウエハー)上に転写される訳で、写真のネガに相当するものになります。
パターン形成には、電子ビーム露光装置を用いたリソグラフィ技術が使われています。

フォトマスクの種類

クロムマスク
エマルジョンマスク
フィルムマスク
グラデーションサーキュラー

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